| 液晶顯示器、顯像管、集成電路（DRAM）用純水 | 2024-4-16 |
在電子元器件生產(chǎn)中，純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料。純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一。... |
| 反滲透純水設(shè)備組成 | 2024-4-15 |
反滲透純水設(shè)備一般包括預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透裝置、后處理系統(tǒng)、反滲透清洗系統(tǒng)等。... |
| 超濾膜過濾技術(shù) | 2024-4-12 |
超濾膜是一種薄膜分離技術(shù)，在一定的壓力下（壓力為0.07～0.7MPa，最高不超過1.05MPa），水、溶解鹽類和其他電解質(zhì)等微小顆粒滲透超濾膜，而相對分子質(zhì)量大的顆粒和膠體物質(zhì)被超濾膜阻擋，從而使水中的部分微粒得到分離的技術(shù)。超濾膜的孔徑是數(shù)十至幾百埃（?）、介于反滲... |
| 超純水設(shè)備采用EDI裝置的優(yōu)點 | 2024-4-10 |
在超純設(shè)備中EDI裝置應(yīng)用在二級反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混合離子交換技術(shù)，產(chǎn)出穩(wěn)定的去離子水。... |
| 中水回用處理方法 | 2024-4-9 |
“中水”是指生活、生產(chǎn)污水經(jīng)過處理后，達到一定標準，滿足特定要求而進行回收利用的水。... |
| 反滲透設(shè)備中濃水閥的重要性 | 2024-4-8 |
根據(jù)反滲透膜元件的結(jié)構(gòu)特征，濃水端的阻力很小，在12m系統(tǒng)流程中，濃水端阻力不超過0.4MPa。如果在濃水端不設(shè)置閥門以進行濃水截留，則水泵出口的0.4MPa壓力不能產(chǎn)生足夠的系統(tǒng)工作壓力，故系統(tǒng)中的濃水閥門不可或缺。... |
| 反滲透超純水設(shè)備系統(tǒng)組成 | 2024-4-7 |
反滲透超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透裝置、混床/EDI裝置以及后級精處理等方法，將原水中的導電介質(zhì)幾乎完全去除，同時將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低的水處理設(shè)備。超純水電阻率一般在10兆歐以上，最高能達到18.25兆歐。... |
| 純化水設(shè)備常見消毒方式 | 2024-4-1 |
純化水制取設(shè)備一般采用反滲透、EDI等全新工藝，針對性地設(shè)計出高純水處理系統(tǒng)，以滿足藥廠、醫(yī)院的純化水、大輸液制取的用水要求。設(shè)備設(shè)計簡單，操作方便，運行穩(wěn)定。... |
| 軟化水處理設(shè)備組成系統(tǒng) | 2024-3-29 |
軟化水處理設(shè)備廣泛用于工藝用水、冷卻補水、鍋爐、鋼鐵冶煉行業(yè)、化工制藥等行業(yè)。其過程是采用離子交換樹脂置換水中的鈣、鎂離子含量從而達到降低水的硬度，阻止水垢沉積。... |
| 反滲透設(shè)備停運保護以及清洗 | 2024-3-25 |
反滲透設(shè)備要短期或長期停用時必須采取保護措施，不規(guī)范地處理會導致膜性能下降且不可恢復(fù)。
當設(shè)備停運15天以下時，每1-3天用低壓沖洗的方法來保護反滲透設(shè)備。水溫在20℃以上時,設(shè)備中的水3天就會發(fā)臭變質(zhì)，同時伴有大量細菌繁殖，此情況下應(yīng)每天低壓沖洗一次。水溫低... |
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